Product Introduction
超高分辨場(chǎng)發(fā)射 SEM 放大倍率可達(dá)到 20-30 萬(wàn)倍量級(jí)，因此它對(duì)噴鍍金屬的顆粒度提出了更嚴(yán)苛細(xì)膩的要求。
普通的 Pt 或 Pt-Pd 合金方案已經(jīng)無(wú)法很好滿足要求，更高熔點(diǎn)的 Ir 靶又太貴，因此 W、Cr 這些顆粒更小的高熔點(diǎn)金屬備受青睞，但 W、Cr 因其活潑的化學(xué)特性需要更高的真空度去噴鍍。
ISC150T是一款高真空離子濺射儀，采用隔膜泵和分子泵組合， 可以產(chǎn)生一個(gè)10-3Pa量級(jí)高真空，既可濺射Au、Pt或Pd等貴金屬 靶材，亦可濺射W、Cr和C等易氧化靶材，特別適用于追求高分 辨率、高放大倍率場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡制樣鍍膜用途。
Product Specification
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技術(shù)規(guī)格 |
參數(shù) |
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真空泵組 |
無(wú)油隔膜泵+分子泵 |
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抽速 |
>0.7m3/h隔膜泵+60 L/S 分子泵 |
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極限真空 |
< 1E-3 Pa |
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工作氣壓 |
0.3-1Pa |
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真空規(guī) |
進(jìn)口品牌皮拉尼真空計(jì) |
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氣體控制 |
MFC氣體質(zhì)量流量控制器（50 SCCM Ar） |
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腔體 |
標(biāo)配Ø150 *120mm石英玻璃腔體 |
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磁控濺射靶 |
靶材尺寸 Ø 50*0.1-2 mm （建議厚度≥0.2 mm）/ 帶手動(dòng)擋板 可濺射貴金屬Au、Pt等，也可濺射Cr、W、Ag等常規(guī)金屬（通Ar氣） |
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濺射電源 |
恒功率磁控DC濺射電源 Max. 30W ，Max. 100 mA，0-800V |
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進(jìn)氣口 |
Ø 8mm氣管 |
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操作方式 |
觸摸屏控制 |
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重量尺寸 |
~30 Kg / 480 mm寬*385 mm深*447 mm高 |
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