技術(shù)規(guī)格

參數(shù)

主要用途

  金屬薄膜電極

真空泵組

  標(biāo)配干泵+2臺(tái)分子泵組

泵組抽速

  >7m3/h 干泵+250 L/S 分子泵

極限真空

  <1.0E-4Pa

工作氣壓

  典型值：0.3-1 Pa

抽空時(shí)間

  <30Min （<1.0E-3 Pa，潔凈腔體）

真空測量

  測量范圍大氣壓到1.0E-8Torr，進(jìn)口品牌復(fù)合真空計(jì)

氣體控制

  兩路 /三路MFC氣體質(zhì)量流量控制器（50或100 SCCM Ar/N2）

腔室尺寸

  Load Lock腔體Ø 300 *180 mm 工藝腔體Ø 300 *180 mm

閘板閥

  AdvanTorr

磁控靶源

  靶材尺寸 Ø 76.2*0.1-5 mm /2只

  選配一：靶材尺寸 Ø 50.8*0.1-5 mm /3只

  選配二：靶材尺寸 Ø 203.2mm/1只

  可實(shí)現(xiàn)單靶濺射/雙、三靶共濺射/交替濺射

  帶獨(dú)立擋板，可濺射貴金屬Au/Pt等，

  或金屬Al、Cr、Ag、Ti、Cu、Ni等金屬（通Ar氣）

濺射電源

  恒功率磁控DC濺射電源 Max. 500W （可選國產(chǎn)或進(jìn)口品牌ADL）

  偏壓DC濺射電源 0-400V電源（選配）

樣品臺(tái)

  8英寸樣品臺(tái)。系統(tǒng)采用多軸伺服電機(jī)控制系統(tǒng)+磁流體密封+波紋管模組，可以實(shí)現(xiàn)樣品臺(tái)自動(dòng)上下升降（可調(diào)范圍不低于40mm），以及樣品臺(tái)的旋轉(zhuǎn)（速度 0-60 RPM可調(diào)）

等離子清洗

  可選配RF射頻等離子清洗源（75W）

工控模式

  提供客戶端工藝菜單編輯軟件。可以實(shí)現(xiàn)工藝菜單靈活編輯（可以在工 藝編輯軟件進(jìn)行模塊化的工藝菜單編輯）+工藝菜單自動(dòng)控制執(zhí)行模式（載入工藝菜單，支持實(shí)現(xiàn)無人值守或遠(yuǎn)程網(wǎng)絡(luò)控制鍍膜）

操作方式

  觸摸屏控制/電腦遠(yuǎn)程網(wǎng)絡(luò)控制

重量尺寸

  ~300 Kg / 800 mm寬*1500 mm深*1500 mm高

輸入電源/氣

  220V AC，50/60Hz 接地三腳插頭，壓縮空氣0.4MMa

輸入功耗

  < 3500 W

冷卻方式

標(biāo)配水冷機(jī)