CN
J20 雙靶離子濺射儀
可噴鍍金屬：Au、Pt、Pd、Ir等單金屬和任意組份的 Pt-Au、Pt-Pd 合金等
1雙靶磁控濺射陰極：無需換靶、特色疊噴工藝
2 觸摸屏一鍵自動化：使用便捷、省時省心
3 標(biāo)配模塊化旋轉(zhuǎn)偏轉(zhuǎn)樣品臺：3D粉末類樣品噴鍍
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試用產(chǎn)品:
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產(chǎn)品介紹
Product Introduction
場發(fā)射掃描電鏡較燈絲電鏡具有更高的分辨率，其放大倍率可以提高至 10 萬倍量級，所以對噴金儀器的顆粒度提出更高的要求，不僅要求顆粒細(xì)膩不要覆蓋樣品表征，而且要在荷電消除和襯度提高上有所增益。

場發(fā)射 SEM 電鏡制樣常規(guī)的應(yīng)對方案是噴鍍 Pt 金屬，但 Pt 的漏電能力和電子信號激發(fā)能力不如Au，特別是在 3D 粉末類、多孔類及隔膜類樣品場景，僅靠噴鍍 Pt 難以通用。

因此，我們設(shè)計(jì)了雙靶離子濺射儀，并開發(fā)出疊層工藝：先噴 Pt 后噴 Au，可以通過 Pt 對樣品先形成保護(hù)，然后通過 Au 提高樣品的漏電能力和信號量，起到抑制荷電和提高形貌襯度的雙重作用，結(jié)合少量多次、旋轉(zhuǎn)偏轉(zhuǎn)等方式，讓 SEM 成像更優(yōu)質(zhì)。
基本參數(shù)
Product Specification

技術(shù)規(guī)格

參數(shù)

真空泵

 高性能旋片泵

抽速

  ≥4 m3/h

極限真空

  <1Pa

工作氣壓

  4-10 Pa，可恒壓控制

抽真空時間

  < 3-5 Min

真空規(guī)

  皮拉尼真空計(jì)

腔室尺寸

  ~Ø 135 *120 mm（內(nèi)尺寸）

數(shù)顯樣品臺

  Ø75mm可偏轉(zhuǎn)數(shù)顯行星樣品臺，旋轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速：10-60RPM可調(diào)，偏轉(zhuǎn)角度：±40度可調(diào)，靶基距40-60mm可調(diào)

濺射靶材

  靶材尺寸 Ø 30 * 0.2-0.5mm/2只，可實(shí)現(xiàn)單靶濺射、雙靶共濺射、雙靶交替濺射功能

濺射電源

  恒功率磁控DC濺射電源 Max. 20W ，Max. 100 mA，0-800 V DC

操作方式

  觸摸屏控制，控制系統(tǒng)提供互鎖保護(hù)功能

重量

  主機(jī)~21.5 kg

尺寸

  ~430mm長 *407mm深 *422mm高
應(yīng)用案例
Application cases
普通樣品場景
粉末、隔膜類樣品場景
易損傷樣品場景
花粉
蝴蝶翅膀
芯片
普通樣品場景 (平面樣品，類比平路)：J20（SUV）基本等同于常規(guī)的單靶離子濺射儀（轎車）， 甚至單靶高真空離子濺射儀效果
鋰電前驅(qū)體粉末-噴鍍Pt
鋰電前驅(qū)體粉末-噴鍍Pt-Au疊層合金
鋰電前驅(qū)體粉末-噴鍍Au

同樣的噴鍍條件，噴Au荷電消除效果顯著，但可清晰看到Au顆粒，Pt荷電未消除，Pt-Au疊層樣品既沒有荷電也看不清金屬顆粒。


3D樣品場景(粉末、多孔、纖維等，類比山路): J20傾角雙陰極+旋轉(zhuǎn)偏轉(zhuǎn)+疊層工藝，實(shí)現(xiàn)全方位多角度大面積沉積，其荷電效果和圖像效果優(yōu)于單靶噴Pt效果
聚乙烯薄膜-未噴鍍
聚乙烯薄膜-噴鍍Pt-Au疊層合金
聚乙烯薄膜-噴鍍Pt-Au疊層合金
沒噴鍍之前5K倍成像已出現(xiàn)納米線黏連變形的現(xiàn)象，分兩次共濺射鉑40秒加固結(jié)構(gòu)，然后加鉑5秒+22秒金 ，期間保持樣品臺旋轉(zhuǎn)（20RPM）加傾斜±30度連續(xù)改變，30K倍可清晰成像。

易損傷樣品場景:在處理脆弱敏感材料的時候，可以先噴Pt對樣品的表面形成保護(hù)，然后噴Au去提升樣品的漏電能力和信號量，結(jié)合樣品的旋轉(zhuǎn)偏轉(zhuǎn)增加金膜覆蓋的均勻程度，最后得到形貌更真實(shí)且清晰的圖像。